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主要用於半導體矽晶片(Silicon Wafer)檢測、液晶屏(LCD)檢測、導電粒子(Conductive Particles)檢查,實驗室材料分析及其他精密工程檢測範圍研究,可對樣品進行明場、暗場、微分幹涉及偏光觀察。
性能特點:
★ | 系統采用無限遠平場消色差、長工作距、明暗場兩用物鏡,成像清晰、像面平坦 |
★ | 配備反射式柯拉照明系統,為不同倍率的物鏡供應均勻充足的照明 |
★ | 正像三通觀察筒,25°傾斜,極大的提高了觀察的舒適性與操作的適應性 |
★ | 配備了6"帶離合器機械平臺,行程158*158mm,可快速移動 |
★ | 最佳人機學策劃,高剛性鏡臂,"Y"型底座,調焦機構采用前置式操作控製,粗微調同軸 |
★ | 光源采用寬電壓數字調光技藝,具有光強設定與復位性能 |
★ | 可選配攝影攝像裝置、簡易偏光裝置、幹涉濾光片、測微尺等附件,拓展應用範圍 |
HN-MXD主要技藝參數
光學系統 | 無限遠色差校正光學系統 |
物鏡 | 無限遠平場消色差,長工作距金相物鏡(明暗場兩用),5X、10X、20X、50X、80X |
目鏡 | 高眼點平場目鏡,PL10X,線視場φ22mm |
觀察筒 | 正像,铰鏈式三目,25°傾斜,分光比:雙目100%,三目100% |
照明系統 | 反射式柯拉照明,明暗場切換,帶簡易偏光接口,12V/100W鹵素燈,預置中心 |
調焦機構 | 粗微調同軸,帶粗調上限位、松緊調節裝置和隨機限位裝置 |
物鏡轉換器 | 內定位、內傾式、五孔、明暗場兩用物鏡轉換器 |
載物臺 | 6英寸矩形,機械移動平臺200mmX200mm,移動行程:158mmX158mm |
機架 | 全新的人機工程學策劃,高剛性鏡臂,"Y"型底座,前置式操作控製 |
選購附件 | 攝影攝像裝置、簡易偏光裝置、幹涉濾光片、測微尺等 |
觀察筒 | 正像觀察筒,物的移動與像的移動方向一致,不會出現使用倒像觀察筒時物像方向相反而产生的錯覺。避免操作失誤,提高工作效率。 |
粗微動同軸調焦機構 | 1、采用新型導軌機構,粗微動同軸 |
機械移動載物臺 | 1、雙層機械移動式,帶離合器控製手柄,可快速移動 |
照明系統 | 1、12V/100W鹵素燈,預置中心 |
物鏡轉換器 | 1、內定位內傾式、五孔明暗場兩用物鏡轉換器 |
偏光裝置 | 1、選擇簡易偏光附件可以達成偏光觀察 |
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